No Products Found Matching Your Search Criteria: "glass test tubes"
نقاء عالية 99.99٪ صفيحة السيليكا المذابة مع نقطة انصهار 1732C و 1100C درجة حرارة العمل للنافذة الكوارتز البصرية
ألواح السيليكا المصهورة عالية النقاء مع 99.99% SiO2، > 92% نفاذية الضوء، نقطة انصهار 1732 درجة مئوية، ودرجة حرارة العمل 1150 درجة مئوية. أحجام مخصصة (قطر 1-800 مم، سمك 0.2-100 مم) مع خيارات التثقيب/القطع. معايير JGS، مقاومة للتآكل، ومتينة لدرجات الحرارة العالية لتطبيقات أشباه الموصلات والليزر والتطبيقات البصرية.
صفيحة الزجاج الكوارتزية الشفافة UV صفيحة السيليكا المصبوبة مع 99.99٪ SiO2 والحجم المخصص
لوح زجاج الكوارتز السيليكا المنصهر عالي النقاء مع 99.99٪ SiO2،> 92٪ نفاذية الضوء، شفاف للأشعة فوق البنفسجية، سمك 0.5-100 مم، درجة حرارة العمل 1150 درجة مئوية. مقاسات مخصصة، معايير JGS، مقاومة للتآكل، مقاومة لدرجات الحرارة العالية، عزل كهربائي قوي.
الصين المورد الشفاف UV الكوارتز لوحة زجاجية مطلية
ألواح زجاجية كوارتز منصهرة مخصصة بنقاء 99.99% SiO₂، ونفاذية ضوء 92%، ودرجة حرارة عمل تبلغ 1100 درجة مئوية. متوفر بأسطح مصقولة وأشكال مختلفة وأحجام مخصصة بتسامح ± 0.02 مم. مثالية للتطبيقات الصناعية لأشباه الموصلات والبصرية ودرجات الحرارة العالية.
صفيحة الكوارتز المثقوبة بالجهاز الدقيق JGS1 JGS2 JGS3 صفيحة الكوارتز المنثقوبة للشرائح نصف الموصلة
ألواح كوارتز محفورة بدقة في درجات JGS1/JGS2/JGS3 لتطبيقات أشباه الموصلات. يتميز بنقاء 99.99% SiO₂، ودرجة حرارة عمل تبلغ 1100 درجة مئوية، وخدمات التثقيب/القطع المخصصة. متوفر في السيليكا المنصهرة الشفافة مع عينات مجانية وموك منخفض.
المقاومة لدرجات الحرارة العالية JGS1 JGS2 JGS3 رقاقة زجاجية صافية للسيليكا الكوارتز المنصهر لصناعة أشباه الموصلات
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
مقاومة لدرجات الحرارة العالية 1200°C أنبوب زجاجي كوارتز مع SiO2 > 99.99% نقاء وخيارات حجم مخصص
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
تخصيص المصنع قوارب الكوارتز المذابة عالية النقاء لفرن الأنابيب المختبر
أنبوب كوارتز منصهر عالي النقاء مع قارب كوارتز لتسخين مختبر الفرن. الميزات SIO2 > 99.99%، درجة حرارة العمل 1100 درجة مئوية، نفاذية الضوء > 92%، عزل كهربائي ممتاز، ومقاومة للتآكل. مثالية لأشباه الموصلات والتطبيقات البصرية والصناعية.
مقاومة لدرجات الحرارة العالية 1100 درجة مقاومة للتآكل 99.99٪ SiO2 أنبوب الزجاج الكوارتز لتطبيقات الفرن
أنابيب زجاجية كوارتز مقاومة لدرجات الحرارة العالية 1100 درجة مئوية ونقاء 99.99% SiO₂. مقاومة للتآكل، كثافة 2.2 جم/سم3، مثالية للأفران ومعدات أشباه الموصلات والتطبيقات المعملية. خيارات مخصصة متاحة مع شهادات ISO9001، CE، RoHS.